比耗子强一万倍的第一光刻专家毅然归国力助民族产业！

光刻机是中国芯片制造业一大痛点，目前，在EUV光刻机赛道中，仅有ASML一个玩家。

然而，受到《瓦尔森协定》的约束，ASML无法向中国大陆出售EUV光刻机。可以说，光
刻机的短缺狠狠卡住了中国芯片的脖子。

为了实现国产芯片自主可控，不少研究机构开始探索一种绕开光刻机的方法。西湖大学研发的冰式光刻机，便是被其中之一。

冰刻机工作原理及过程

冰刻机的物理依据十分简单：在零下将近140°的真空环境中，水可以直接凝结成冰。
冰刻机便是依据水遇冷凝结的原理，来实现光刻机的功能。

据冰刻机研究人员介绍，在样品放入真空设备后，首先要进行降温处理，之后便会注入水蒸气，使得样品上凝华出薄冰，形成一层“冰胶”。

这层“冰胶”，便代替了传统芯片制造中光刻胶的作用。值得注意的是，冰刻胶并不是普通冰，而是兼具光刻胶与冰特性的新型化学合成冰。

被电子束打到的冰会瞬间气化，从而直接雕刻出冰膜板。再经过一系列加工步骤，由冰刻而成的芯片便成功亮相。

冰刻机优势

与光刻机相比，冰刻机的优势颇多。

一是，冰刻机解决了光刻胶的多项短板。

在传统芯片制造过程中，第一步便是要将光刻胶均匀涂抹在样品之上。这一过程一旦做不好，生产过程中就容易出问题。

而且，光刻胶对所涂抹样品的材质、面积都有要求，不能太小或太脆弱。

而冰刻胶则要“随意”许多。水蒸气可以包裹在任意形状的表面，而且其十分轻盈，不会对加工材料造成影响。

另外，使用冰刻胶还能直接省去化学试剂清洗形成的模具的步骤，不会出现因光刻胶残留，致使良品率低下的问题。

二是，冰刻技术更加清洁。

在传统芯片生产过程中，需要多次用化学试剂对光刻胶进行冲洗，而冰刻技术则不需要这一点。

因为，冰在融化或成为水蒸气后，便会消失的无影无踪。如此一来，便能够大大降低洗胶造成的污染。

如今，西湖大学纳米光学与仪器技术实验室负责人仇旻及其团队，已经在该领域攻克8
年之久，诸多成绩已经逐渐显现。

在Nano Letter、Nanoscale等期刊上，团队发布了一系列研究成果。

如今，其已经研发出我国首台“冰刻”系统已经；目前，冰刻系统2.0也在全力研发之
中。未来，在三位维纳加工上，冰刻技术或有更广泛的应用。

仇旻及其团队用一次次实验证明，冰刻技术并不是异想天开，而是切实可行。

冰刻技术能否绕开光刻机？

那么，冰刻技术有这么多优势，能否助力国产芯片绕开光刻机呢？

答案是还不能，目前冰刻机还处在实验室阶段，距离商用道路漫漫。而且，冰刻机还有两大难题需要攻克。

第一，生产效率难提升。

冰刻机采用电子束加工，需要逐帧对及晶圆表面进行雕刻。与光刻机相比，在效率上有明显的落后。

第二，确保雕刻精度难题。

冰刻机工作原理听起来虽然简单，但实际操作起来却有许多棘手难题，忽略任何一个小细节，都会对雕刻的精度产生影响。仅注入水蒸气这一步，研究团队就进行了无数次试验。

因而，在冰刻机商业化这条道路上，还有些不少的阻碍需要解决。

写在最后

如今，全球仅有两家做冰刻的实验室，其中一家便在西湖大学。没有前人经验作为指导，冰刻机的研发只能摸着石头过河，十分艰难。

这注定是一条孤独的道路，而且前路冰刻机前路究竟如何，还是一片未知。

即便如此，仇旻仍对冰刻技术抱有极大热情，他表示这是项令人激动的新技术。他认为，冰刻技术将解决光刻无法解决的难题，并开辟出全新的科学交叉和研究方向。

一看发了论文就知道没戏了。

跟当年的DSA一样，学术界搞得热火朝天，工业界看都不看

唉
咱咋就回不去呢？羡慕嫉妒恨啊。

1991年考入浙江大学；1995年获得浙江大学物理学士；1999年获得浙江大学凝聚态物理博士；2001年获得瑞典皇家工学院电磁理论工学博士后留校任教；2005年获得“瑞典战略研究基金会”资助的“未来科研带头人”基金；2009年34岁的仇旻晋升为正教授；
2010年回到浙江大学任教，先后担任浙江大学现代光学仪器国家重点实验室主任，浙江大学光电学院微纳光子学研究所所长；2013年被美国光学学会选为会士；2014年获国家杰出青年科学基金项目资助；2018年4月16日出任西湖大学副校长。

【 在 antiwsn(antiwsn) 的大作中提到: 】

: 跟当年的DSA一样，学术界搞得热火朝天，工业界看都不看

这群傻逼连热胀冷缩都不懂。温度是是任何精密加工的首选考量。

一看电子束就知道不能大规模量产

这逼做的东西跟卡脖子的光刻有鸡巴毛关系？

根本就不是光刻机，大喘气

【 在 srx(srx) 的大作中提到: 】

: 一看电子束就知道不能大规模量产

感觉发完paper最后就没有最后了

【 在 dhzmvd () 的大作中提到: 】
: 光刻机是中国芯片制造业一大痛点，目前，在EUV光刻机赛道中，仅有ASML一个玩家。
:
: 然而，受到《瓦尔森协定》的约束，ASML无法向中国大陆出售EUV光刻机。可以说，光
: 刻机的短缺狠狠卡住了中国芯片的脖子。
:
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: 为了实现国产芯片自主可控，不少研究机构开始探索一种绕开光刻机的方法。西湖大学
: 研发的冰式光刻机，便是被其中之一。
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: 冰刻机工作原理及过程
:
: 冰刻机的物理依据十分简单：在零下将近140°的真空环境中，水可以直接凝结成冰。
: 冰刻机便是依据水遇冷凝结的原理，来实现光刻机的功能。
:
: 据冰刻机研究人员介绍，在样品放入真空设备后，首先要进行降温处理，之后便会注入
: 水蒸气，使得样品上凝华出薄冰，形成一层“冰胶”。
:
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: 这层“冰胶”，便代替了传统芯片制造中光刻胶的作用。值得注意的是，冰刻胶并不是
: 普通冰，而是兼具光刻胶与冰特性的新型化学合成冰。
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: 被电子束打到的冰会瞬间气化，从而直接雕刻出冰膜板。再经过一系列加工步骤，由冰
: 刻而成的芯片便成功亮相。
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: 冰刻机优势
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: 与光刻机相比，冰刻机的优势颇多。
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: 一是，冰刻机解决了光刻胶的多项短板。
:
: 在传统芯片制造过程中，第一步便是要将光刻胶均匀涂抹在样品之上。这一过程一旦做
: 不好，生产过程中就容易出问题。
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: 而且，光刻胶对所涂抹样品的材质、面积都有要求，不能太小或太脆弱。
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: 而冰刻胶则要“随意”许多。水蒸气可以包裹在任意形状的表面，而且其十分轻盈，不
: 会对加工材料造成影响。
:
: 另外，使用冰刻胶还能直接省去化学试剂清洗形成的模具的步骤，不会出现因光刻胶残
: 留，致使良品率低下的问题。
:
: 二是，冰刻技术更加清洁。
:
: 在传统芯片生产过程中，需要多次用化学试剂对光刻胶进行冲洗，而冰刻技术则不需要
: 这一点。
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: 因为，冰在融化或成为水蒸气后，便会消失的无影无踪。如此一来，便能够大大降低洗
: 胶造成的污染。
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: 如今，西湖大学纳米光学与仪器技术实验室负责人仇旻及其团队，已经在该领域攻克
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: 年之久，诸多成绩已经逐渐显现。
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:
: 在Nano Letter、Nanoscale等期刊上，团队发布了一系列研究成果。
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: 如今，其已经研发出我国首台“冰刻”系统已经；目前，冰刻系统2.0也在全力研发之
: 中。未来，在三位维纳加工上，冰刻技术或有更广泛的应用。
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: 仇旻及其团队用一次次实验证明，冰刻技术并不是异想天开，而是切实可行。
:
: 冰刻技术能否绕开光刻机？
:
: 那么，冰刻技术有这么多优势，能否助力国产芯片绕开光刻机呢？
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:
: 答案是还不能，目前冰刻机还处在实验室阶段，距离商用道路漫漫。而且，冰刻机还有
: 两大难题需要攻克。
:
: 第一，生产效率难提升。
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: 冰刻机采用电子束加工，需要逐帧对及晶圆表面进行雕刻。与光刻机相比，在效率上有
: 明显的落后。
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: 第二，确保雕刻精度难题。
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: 冰刻机工作原理听起来虽然简单，但实际操作起来却有许多棘手难题，忽略任何一个小
: 细节，都会对雕刻的精度产生影响。仅注入水蒸气这一步，研究团队就进行了无数次试
: 验。
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: 因而，在冰刻机商业化这条道路上，还有些不少的阻碍需要解决。
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: 写在最后
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: 如今，全球仅有两家做冰刻的实验室，其中一家便在西湖大学。没有前人经验作为指导
: ，冰刻机的研发只能摸着石头过河，十分艰难。
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: 这注定是一条孤独的道路，而且前路冰刻机前路究竟如何，还是一片未知。
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: 即便如此，仇旻仍对冰刻技术抱有极大热情，他表示这是项令人激动的新技术。他认为
: ，冰刻技术将解决光刻无法解决的难题，并开辟出全新的科学交叉和研究方向。

真正实用的东西，是不会发paper的。

小黄人跟搞工程技术的要论文，跟搞基础研究的要工艺、产品。

骗档中央的。

兲朝知识分子胆子大，敢杀党委书记，敢骗政治局。

【 在 antiwsn (antiwsn) 的大作中提到: 】
: 跟当年的DSA一样，学术界搞得热火朝天，工业界看都不看

电子束打

LoL

为什么不直接用现成的ebeam lithography

【 在 dhzmvd () 的大作中提到: 】
: 光刻机是中国芯片制造业一大痛点，目前，在EUV光刻机赛道中，仅有ASML一个玩家。
: 然而，受到《瓦尔森协定》的约束，ASML无法向中国大陆出售EUV光刻机。可以说，光
: 刻机的短缺狠狠卡住了中国芯片的脖子。
: 为了实现国产芯片自主可控，不少研究机构开始探索一种绕开光刻机的方法。西湖大学
: 研发的冰式光刻机，便是被其中之一。
: 冰刻机工作原理及过程
: 冰刻机的物理依据十分简单：在零下将近140°的真空环境中，水可以直接凝结成冰。
: 冰刻机便是依据水遇冷凝结的原理，来实现光刻机的功能。
: 据冰刻机研究人员介绍，在样品放入真空设备后，首先要进行降温处理，之后便会注入
: 水蒸气，使得样品上凝华出薄冰，形成一层“冰胶”。
: ...................

现在DSA应该快出来了 lam产品线预计可以配合新出来的high NA EUV 把单次曝光干到P 16nm以下

【 在 antiwsn (antiwsn) 的大作中提到: 】
: 跟当年的DSA一样，学术界搞得热火朝天，工业界看都不看

因为ebeam litho现在骗不到钱了

【 在 ykyh (可防可控,又快又好) 的大作中提到: 】
: 电子束打
: LoL
: 为什么不直接用现成的ebeam lithography

DSA是?
【 在 antiwsn (antiwsn) 的大作中提到: 】
: 跟当年的DSA一样，学术界搞得热火朝天，工业界看都不看