中芯国际为什么只生产28nm芯片了？

选择28nm以上成熟制程的原因？

中芯国际为什么要选择28nm以上成熟制程？

继华为被美国禁止和台积电、三星等代工厂进行合作并生产芯片后，今年3月1日，美国四部委却发令，批准美领先设备厂商向中芯国际供应，其中包括14纳米及以上的设备。另外荷兰方面，半导体设备制造商阿斯麦集团也开始愿意向中芯国际出售光刻机。

但被批准对中芯国际出售的光刻机采用的是DUV技术，即深紫外线光刻技术。简单地说
，DUV技术光刻机只能用于制造中低端芯片。而阿斯麦集团真正压箱底的光刻机技术是
EUV技术，即极紫外线光刻机，它才是制造高级芯片的关键。

因此在这种局势下，若先选择发力28nm芯片的制造，一定程度上可以缓解国内外智能制造领域对芯片的迫切需求。

而28nm工艺节点是用来区分中低端和中高端芯片的关键技术节点，目前市场普遍认为，28nm以上的为成熟制成，以下则为先进制成。

去年11月，中国半导体产业协会表示中国将在两年内实现28纳米工艺技术自给自足。根据《2019集成电路行业研究报告》，28nm及以下工艺的先进工艺占据了48%的市场份额
，而成熟工艺则占据了52%的市场份额。

并且，28nm以上成熟工艺领域的芯片可运用之处其中包括，AIoT、新能源汽车、5G网络设备、一些智能家居等。

而在需求端，大部分设计企业都集中在成熟工艺上，那么庞大的国内市场将给各大国内厂商提供了非常多的发展空间。

原来河南人继续提供被批准对中芯国际出售的光刻机采用的是DUV技术，即深紫外线光
刻技术。

简单地说，DUV技术光刻机只能用于制造中低端芯片。

而河南阿斯麦集团真正压箱底的光刻机技术是EUV技术，即极紫外线光刻机，它才是制
造高级7nm，5nm芯片的关键，对兲朝来说是非卖品。

真闹掰了，28nm也危险了。要退到90nm

拭目以待。

【 在 Jelimi (炮叔) 的大作中提到: 】
: 真闹掰了，28nm也危险了。要退到90nm