中科院澄清5nm光刻技术为误读 国产水平在180nm

近日，有关“新型5nm超高精度激光光刻加工方法”论文的通讯作者、中科院研究员、
博士生导师刘前在接受媒体采访时澄清，这一技术与高端光刻机采用的极紫外光刻技术（EUV）是两回事。

今年7月，中科院网站刊登了一则国产5nm光刻技术获突破的新闻，中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米外报》上发表了一篇研究论文，述了该团队开发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法。

中科院突破5nm光刻技术的新闻，恰逢华为遭遇美国技术封锁、寻求出路的时刻。这一
突破让国人看到了希望。消息一出，社交媒体上一片沸腾。但随后这条新闻被删除。

刘前解释，中科院研发的5nm超高精度激光光刻加工方法的主要用途是制作光掩模，这
是集成电路光刻制造中不可缺少一个部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。但即便这一技术实现商用化，要突破光刻机巨头荷兰公司ASML的垄断，还有很多核心技术需要突破，例如镜头的数值孔径、光源的波长等。况且这一技术目前还在实验室阶段。

按照制程，光刻机工艺可以分为180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等。根据外媒报道，在日前的ITF论坛上，与全球光刻机巨头ASML合作研发半导体光刻机的比利
时半导体研究机构 IMEC 正式公布，ASML对于3纳米、2纳米、1.5纳米、1纳米，甚至是小于1纳米的工艺都做了清楚的发展规划。

国内的光刻机到底在什么水平？一位半导体产业界资深人士对AI财经社说，目前可以实现180nm制程，但还在试用阶段，仍需要攻克。

一位光刻机行业人士曾对AI财经社透露，据他了解，目前上海微电子仅有一台尚没有量产、能做到90nm制程的光刻机，使用的实际上是海外20年前的光源技术。

在国家2008年启动的扶持芯片设备的02专项中，光刻机是花钱最多的项目，一投就是10多年，为什么一直没有做出追赶世界潮流的先进产品？

前述半导体行业人士称，这并不完全是技术问题，而是产业环境问题。在华为事件发生之前，国产设备一直处于鄙视链下游，客户都不愿意配合使用和测试。“送给别人用，人家都不愿意花时间，天生觉得你不行，在那种状态下，干着都没劲。”

社交媒体上，有疑似上海微电子的员工留言说，2015年曾给国内某芯片制造厂送了一台样机，最后机器一直放在厂房里成了一堆废铁。

但在华为事件的催化下，国内厂商都看到了芯片被卡脖子的严重后果。前述半导体行业人士观察，这两年光刻机的进展快了很多。“被逼到绝路上的时候，大家都拼命帮你做，这和你自己干的劲头是不一样的。但是光刻机的进展肯定不会那么快，总体来说得一步步地往前走。”

来源: AI财经社

哈哈哈哈哈哈哈哈哈哈或

中科院的老实巴交孩子被小粉红媒体吓尿了 98

中科院太反华了

廊庑都已经开撸了

【 在 vknkpiabfchs (胡子多多) 的大作中提到: 】
: 近日，有关“新型5nm超高精度激光光刻加工方法”论文的通讯作者、中科院研究员、
: 博士生导师刘前在接受媒体采访时澄清，这一技术与高端光刻机采用的极紫外光刻技术
: （EUV）是两回事。
: 今年7月，中科院网站刊登了一则国产5nm光刻技术获突破的新闻，中科院苏州纳米技术
: 与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米外报
: 》上发表了一篇研究论文，述了该团队开发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法。
: 中科院突破5nm光刻技术的新闻，恰逢华为遭遇美国技术封锁、寻求出路的时刻。这一
: 突破让国人看到了希望。消息一出，社交媒体上一片沸腾。但随后这条新闻被删除。: 刘前解释，中科院研发的5nm超高精度激光光刻加工方法的主要用途是制作光掩模，这
: 是集成电路光刻制造中不可缺少一个部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。但即便这一
: ...................

好奇这贴粉红，干五都哪里去了；你们别逼国内做科研的了，再逼下一个就是老潘上来了

【 在 vknkpiabfchs (胡子多多) 的大作中提到: 】
: 近日，有关“新型5nm超高精度激光光刻加工方法”论文的通讯作者、中科院研究员、
: 博士生导师刘前在接受媒体采访时澄清，这一技术与高端光刻机采用的极紫外光刻技术
: （EUV）是两回事。
: 今年7月，中科院网站刊登了一则国产5nm光刻技术获突破的新闻，中科院苏州纳米技术
: 与纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米外报
: 》上发表了一篇研究论文，述了该团队开发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法。
: 中科院突破5nm光刻技术的新闻，恰逢华为遭遇美国技术封锁、寻求出路的时刻。这一
: 突破让国人看到了希望。消息一出，社交媒体上一片沸腾。但随后这条新闻被删除。: 刘前解释，中科院研发的5nm超高精度激光光刻加工方法的主要用途是制作光掩模，这
: 是集成电路光刻制造中不可缺少一个部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。但即便这一
: ...................

很容易就知道了，现在中芯，华为都被加入黑名单了，看看他们能不能做出180nm以下
的芯片就行，网上的所谓专家大多胡扯。

技术大跃进，太厉害

厉害了我的哥
可惜发的太晚了，机器人昨天都射了几轮了

造假的中科院发考题吓坏了

造假专家看到过造假的，没看到过这样造假的。。。

【 在 maol8 (茅十八) 的大作中提到: 】
: 造假的中科院发考题吓坏了

搞量子通信的量子计算机的胆儿够肥，所以出名了

那不叫胡扯 、那叫忽悠。
专家们最爱干这事。网友戏称：战忽局

这不、一下就把楼上的傻B忽悠高潮了。

【 在 xiaohehe123 (xiaohehe123) 的大作中提到: 】
: 很容易就知道了，现在中芯，华为都被加入黑名单了，看看他们能不能做出180nm以下
: 的芯片就行，网上的所谓专家大多胡扯。

凡是不要到市场上去动真家伙的，全部是忽悠。

【 在 tmbb2010 (tmbb2010) 的大作中提到: 】
: 那不叫胡扯 、那叫忽悠。
: 专家们最爱干这事。网友戏称：战忽局

今日资料分享：

1965年中国科学院研究出，六五型接触式光刻机。
1970年中国科学院开始研究计算机辅助光刻机掩膜工艺。
1972年武汉市无线电三厂编写了<光刻掩膜的制造>一书，共33开66页。

当然中国科学院也编写过光致抗蚀剂 光刻胶 一书 由新华社联合出版的。

转载一篇对国内科技现状的反思文章,值得一读!
我们起步真的晚吗?
中国芯片落后的现状,导致今天只能看人脸色.
每年80%以上的芯片靠进口,2019年超过2万亿.
这么大的进口量,还被人牵着鼻子走.
很多人习惯性叹息:先忍几年吧,谁怪我们一穷二白起步晚呢.
可中国芯片技术发展真的晚吗?
(待续)

（续1）
其实中国1956年就开始规划,比日本还要早上两年.
明明是管理水平的问题,也要归结为“起步晚”.
明明是有些人中饱私囊,也要归结为“起步晚”.
明明是体制不顺的问题,也要归结为“起步晚”.
明明是上下其手欺骗国家,也要归结为“起步晚”.
“起步晚”成了很多失败者有力的借口,同样也成了很多骗子的“挡箭牌”

(续2)
是的,我们在很多领域是一穷二白,起步很晚.
但很多领域,我们的起步并不晚.

1.半导体科学,曾经的荣耀和骄傲
半导体起了个大早,今天都没能赶个晚集.
▲1956年,在我国 “十二年” 科学技术发展远景规划中,半导体科学技术被列为当时国家新技术四大紧急措施之一.
▲1960年,北京成立中国科学院半导体

（续4）
研制的C1103要晚五年,但是比韩国`台湾要早四五年.
然而,这是中国集成电路产业最后的辉煌.
今天的半导体科学技术,中国没有任何话语权.
2.集成电路,本可以领先台积电
就算中间发展停滞,但80年代仍然还有机会.
上世纪80年代初,大陆和台湾有两家跟集成电路相关的企业先后成立.

(续3)
研究所,开启了中国半导体科学技术的发展之路.
▲1958年,即在中科院拉出中国第一根硅单晶——我们今天所说的硅晶圆,就是在硅单晶棒基础上切片得到的.
▲17年后,北京大学物理系半导体研究小组,设计出我国第一批三种类型的（硅栅NMOS,
硅栅PMOS,铝栅NMOS）1K DRAM动态随机存储器,它比美国英特尔公司

(续5)
一家是从中科院计算所起步,成立于1984年的联想,从代理电脑销售开始,最后成长为PC
生产商和供应商.
而比联想晚三年成立的台积电,是全球第一家集成电路制造服务企业,目前是市场占有率超过50%,也是全球最大`技术最先进的晶圆代工企业.
两家公司创始人对比也很有意思.
机械系出身的张忠谋,

(续6)
看准了半导体产业发展壮大并细分的趋势,开创了半导体代工行业,随后在半导体工艺制程方面一直引领着产业发展.
而在中国第一家专门从事计算机技术研究的机构工作,柳传志本来离芯片更近,但他选择了“贸工技”的发展路线.
本来在集成电路上可以一争雄长,但我们选择了放弃.
今天的台积电,

(续7)
成为全球顶尖级明星企业.
4.光刻机大败局,值得重新思考
光刻机是制造芯片的核心装备,其精度决定了芯片性能的上限.
但中国光刻机的起步晚吗?
▲1965年,中国便研制出65型接触式光刻机.
要知道,后来称霸光刻机界的荷兰ASML公司这时还没有成立.
▲1977年,GK-3半自动光刻机诞生.

（续8）
▲1980年,清华大学研制出第四代分布式投影光刻机,精度高达3微米,已经接近国际主流水平,仅次于美国.
▲1982年,科学院109厂研制的KHA-75-1光刻机在当时的水平均不低,最保守估计跟当时
最先进的canon相比最多也就不到4年,而且从jkg系列至今仍在销售的情况来看,都具有
不错的使用价值.

▲1985年,机电部45所研制出了分步光刻机样机,通过电子部技术鉴定,认为达到美国
4800DSW的水平.中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年(美国是1978年).
但随后中国光刻机技术遭遇“滑铁卢”:
在“十二五”科技成就展览上,中国生产的最好的光刻机,加工精度是90纳米.
这相当于2004年上市的奔腾四CPU的

(续10)水准,而国外已经做到了十几纳米.
光刻机大败局背后到底是什么原因?
4.航空发动机,至今让人揪心
航空发动机与光刻机一样,都代表了人类科技发展的顶级水平.
它们都属于后工业化时代的综合产物,是现代工业皇冠上的明珠.
中国航空发动机的起步并不比别人晚.
当美国普惠上世纪50年代

(续11)推出世界上首台涡扇发动机时,中国不甘落后奋起直追.
1963年启动的涡扇5项目以及1964年启动的涡扇6项目,让人为之兴奋.
但因为文革十年,这两个项目相继失败,停止研制.
不久后的涡扇9,则是历经30年时间才通过国产化工程技术鉴定,获准投入批量生产.
此后,中国航天发动机与美国的差距,便定格在了30年.

(续12)与航空发动机霸主美国相比,F-35采用的普惠F-135系列发动机,其运行寿命便达
到8000小时,是我国太行发动机的40倍以上.
而在民用航空发动机领域,中国至今没有一款可以装机的高涵道比涡扇发动机.
因为发动机涉及军事战争领域,更加让人揪心.
那航天发动机喷射出来的火焰虽然像极光一样美丽,但对于很多

就以今天的芯片产业为例,这里面到底有真正想做实事的人?
近年来各地纷纷掀起“造芯运动”:
广州投资建设粤芯,成都引进紫光;
南京引进了台积电,无锡打造华虹基地;

(续23)厦门引入了联电,重庆则引进了万国半导体;
合肥投资建设长鑫,武汉引入弘芯.
就连一些三四线城市都在搞造芯运动……
这里面到底有多少公司是想为国造芯,还是为了割政府韭菜?
8.弘芯样本,制造芯片还是忽悠补贴?
我们见过太多忽悠补贴的企业,他们的目标就是拿一笔钱再说.
就算最后是一地鸡毛,

(续24)最终无人买单.
以武汉弘芯为例.这家成立于2017年的芯片公司,上手就是14nm工艺,紧接着7nm ,高呼每月要有3 万片的产能,搞得造芯片和卖茶叶蛋一样没区别.
同时秀出了一系列骚操作:
1.花重金请来台积电前运营长蒋尚义博士请来当 CEO.
2.花大价钱购买荷兰ASML公司光刻机,这台NXT:1980Di

(续25)的光刻机支持7nm的芯片制程.为了迎接这台价值连城的宝贝,弘芯搞了一个进场
仪式,背景板上赫然写着“弘芯报国`梦圆中华”八个大字.
在武汉市发改委的《2020年市级重大在建项目计划》红头文件中,武汉弘芯半导体的总
投资1280亿人民币,首期投资占到了先进制造业项目的最大头.
万事俱备,只欠东风.

(续26)接下来就应该生产芯片报效祖国吧?
然而现实再一次教会我们怎么做人:这家公司最近被曝出资金断裂,官司缠身,1980Di这
个宝贝也被抵押出去续命.
最终结果怎么样?只怕也能猜出来.

9.别再用“我们起步很晚”,来给自己找借口了
芯片“烂尾楼”,完全在意料之中.
回首看看2003年汉芯事件,本质上并没有什么两样

(续27)当年振奋人心的“汉芯一号”,各级领导`顶级专家纷纷站台.
真相是该公司将摩托罗拉芯片用砂纸磨掉,然后加上汉芯LOGO,荒天下之大谬!如此明目
张胆的科研造假,让人瞠目结舌.
如果不真正去做事,起步再早又有什么用呢?
很可惜,汉芯事件早已经被忘却.
大多数人看到今天的芯片窘境,只会笼统地说一句:

(续28)我们起步太晚!
这样的逻辑,那些割韭菜的骗子会眉开眼笑地点赞.
做实事的企业,与起步早晚并没有直接关系.
华为1993年进入安防芯片领域,击败当年业界霸主TI公司;
阿里云创建于2009年,如今成为全球第三的云计算平台;
TikTok于2016年正式上线,在应用层面走在互联网前列;
……
自信的民族或者企业,

(续29)敢于撕掉“起步晚”这块遮羞布,砥砺前行.
中国应该做的,是追求实事求是,完善市场竞争,保证公平自由,做到依法行事,尊重知识
产权,而不是用“起步很晚”来给自己找借口.
我们原来也是一穷二白,但现在也成为世界经济大国.
别再轻易把“起步很晚”挂在嘴边,听起来特别没风骨.

(续完)其实,苹果的智能手机2008年才推出,安卓系统2010年之后才开始风靡世界.
最前沿的科技领域,谁又不是从一穷二白开始的呢?

文章转自公众号:量子学派（ID:quantmschool),版权归原作者"量子君"所有
文章来源:139朋友圈精选
转发说明:
1.文中观点不代表本人观点
2.转发旨在帮海外朋友了解国内科技界状态

我靠，180nm! 太先进了，粉红们鼓掌啊！！

这种那个年代鉴定成果东西就不要再提了，汉芯也是国家专家会鉴定。

不能自己哄自己过了些年就自己也相信了。

【 在 xiaoliu8964 (经济专家) 的大作中提到: 】
: ▲1985年,机电部45所研制出了分步光刻机样机,通过电子部技术鉴定,认为达到美国
: 4800DSW的水平.中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年(美国是1978年).
: 但随后中国光刻机技术遭遇“滑铁卢”:
: 在“十二五”科技成就展览上,中国生产的最好的光刻机,加工精度是90纳米.
: 这相当于2004年上市的奔腾四CPU的

问题是还要用硬通货买国外芯片。

【 在 xiaoduoduo (水佬倌) 的大作中提到: 】
: 这种那个年代鉴定成果东西就不要再提了，汉芯也是国家专家会鉴定。
: 不能自己哄自己过了些年就自己也相信了。

共军养了两股势力 一股唱红脸一股唱白脸 两股势力合力把美国彻底忽悠瘸了