上海微电子今年12月下线可生产11纳米的光刻机有生产7nm制程的

上海微电子将于今年（2020年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/
10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮
双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。
该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）。该网友同时贴出SMEE的双工件台曝光系
统的操作控制界面。同时还透露长春光机所正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机，预计两年内可推出。

光刻机的两大核心部件为双工件台和曝光系统。根据此前媒体透露消息，清华大学朱煜教授带领的团队在2014年研发出工件台样机，掩模台/硅片台同步扫描指标实测达到MA
：2.2nm、MSD:4.7nm，使中国成为第二个掌握此技术的国家。随后依托该技术产业化成立华卓精科向市场推出商用光刻机双工件台产品。另外在EUV曝光系统方面，长春光机
所于2002年研制国内第一套EUV光刻原理装置，于2016年成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，2017年32nm线宽的13.5nm极紫外光EUV光刻曝光系统通过验收。科益虹源在2018年成功商用的浸没式193nm准分子激光器。

其它核心器件技术方面，依托浙江大学研发团队的启尔机电推出了可用于最高11nm制程浸没式光刻机的浸液系统。中微半导体也推出用于5nm制程蚀刻机。南大光电研发出
193nm光刻胶。华为自研EDA已进行7纳米验证。

国产深紫外浸入式光刻机（DUV）在今年就要下线了,其中：

1． 由上海微电子负责总体集成，超精密光栅系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所。

2． 光刻机物镜组来自北京国望光学。

3． 光源来自科益虹源。

4． 浸液系统来自浙江启尔机电。

5． 双工件台来自华卓精科。

这个光刻机的套刻精度为4纳米，可以适用于11纳米曝光。由双工件台技术指标可以得
知这个光刻机每小时可以曝光160—180片12英寸晶片。

极紫外光刻机（EUV）：

1. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所在2016年验收了原理技术样机，在近两年会下线第一台验证机。

2. 极紫外光源方面，哈尔滨工业大学方面负责的DPP—EUV光源已经到了接近125W的水平，基本可以支持中国科学院长春光学精密机械与物理研究所完成一套一小时曝光60—70片12英寸晶片极紫外光刻机验证机。

3. 在光刻机物镜方面由北京某企业负责的物镜超精密加工机床也通过了验收。

4. 2018年5月24日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”专项（以下简称02重大专项）实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项”极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了任务验收和财务验收。

既然AMSL不肯卖机器，那么知识产权就不作数了

期货还是现货？中芯国际用的是这中间的哪一个？

期货

中芯应该还没用

不过未来1年可能就要用了

夕阳，容易，中国为什么要搞这个？

【 在 keyrock(不高兴) 的大作中提到: 】

: 期货

: 中芯应该还没用

: 不过未来1年可能就要用了

芯片夕阳是显然的，摩尔定律还能玩出什么新花样，还能无视物理定律

中国搞还不是因为床铺用这个做武器

【 在 davidwright (davidwright) 的大作中提到: 】
: 夕阳，容易，中国为什么要搞这个？
:
: 期货
:
: 中芯应该还没用
:
: 不过未来1年可能就要用了
:

都夕阳了，能有什么厉害？川普用夕阳的东西都能作武器，他怎么做到的？中国就这么被容易的夕阳的东西欺负？

【 在 keyrock(不高兴) 的大作中提到: 】

: 芯片夕阳是显然的，摩尔定律还能玩出什么新花样，还能无视物理定律

: 中国搞还不是因为床铺用这个做武器

本来就没啥厉害，厉害只是市场词

芯片都是夕阳产业的

真的高科技还是跟着外星人造病毒，人类现在连门都没摸到

【 在 davidwright (davidwright) 的大作中提到: 】
: 都夕阳了，能有什么厉害？川普用夕阳的东西都能作武器，他怎么做到的？中国就这么
: 被容易的夕阳的东西欺负？
:
: 芯片夕阳是显然的，摩尔定律还能玩出什么新花样，还能无视物理定律
:
: 中国搞还不是因为床铺用这个做武器
:

一个小小细胞，比芯片复杂无穷倍了

人类未来还是得跟着外星人

193纳米的光源，数值孔径1.35，

那么理论分辨率=0.61x193/1.35=87nm

即使浸入到水中，波长缩小，最多也就50nm分辨率

这最后又是怎么搞到11nm的？

11nm 是多次曝光搞定的
【 在 furoci (伊千枝) 的大作中提到: 】
: 193纳米的光源，数值孔径1.35，
: 那么理论分辨率=0.61x193/1.35=87nm
: 即使浸入到水中，波长缩小，最多也就50nm分辨率
: 这最后又是怎么搞到11nm的？

http://www.mitbbs.com/mitbbs_postdoc.php?board=Military&reid=56854159&gid=56853703

光看专利就能做出东西？五毛的无知简直让人无语~~~

【 在 sgi (pp) 的大作中提到: 】
: 既然AMSL不肯卖机器，那么知识产权就不作数了

这是想抢天下第一傻逼的说法吗？五毛傻逼不止一次用这个秀脑残了。市场禁运和专利没有毛关系，有了专利，坐受利不投入生产都行，投放不投放完全是专利权人的事。甚至用专利堵竞争产品都是正常的，专利本身就是为了让下一代产品和市场权控制在自己手里。

傻逼五毛真脑残啊？要是这样，IPHONE中国市场投放时间不一样，就做废了？下一代
IPHONE没做出来，所以专利没有用？弱智无底线了。

【 在 sgi (pp) 的大作中提到: 】
: 既然AMSL不肯卖机器，那么知识产权就不作数了

华为去年鸿蒙就应该上线了！LOL！

【 在 keyrock (不高兴) 的大作中提到: 】
: 上海微电子将于今年（2020年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/: 10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮
: 双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。
: 该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）。该网友同时贴出SMEE的双工件台曝光系
: 统的操作控制界面。同时还透露长春光机所正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机，
: 预计两年内可推出。
: 光刻机的两大核心部件为双工件台和曝光系统。根据此前媒体透露消息，清华大学朱煜
: 教授带领的团队在2014年研发出工件台样机，掩模台/硅片台同步扫描指标实测达到
MA
: ：2.2nm、MSD:4.7nm，使中国成为第二个掌握此技术的国家。随后依托该技术产业化成
: 立华卓精科向市场推出商用光刻机双工件台产品。另外在EUV曝光系统方面，长春光机
: ...................

河南国有这种压力， 所以前不久说可以卖先进的光刻机了。
只是现在疫情耽误，河南国自己大部分零件也是万国组装货， 出不了货。 看看再等
等，也许真的不用卖了。

【 在 keyrock (不高兴) 的大作中提到: 】
: 上海微电子将于今年（2020年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/: 10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮
: 双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。
: 该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）。该网友同时贴出SMEE的双工件台曝光系
: 统的操作控制界面。同时还透露长春光机所正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机，
: 预计两年内可推出。
: 光刻机的两大核心部件为双工件台和曝光系统。根据此前媒体透露消息，清华大学朱煜
: 教授带领的团队在2014年研发出工件台样机，掩模台/硅片台同步扫描指标实测达到
MA
: ：2.2nm、MSD:4.7nm，使中国成为第二个掌握此技术的国家。随后依托该技术产业化成
: 立华卓精科向市场推出商用光刻机双工件台产品。另外在EUV曝光系统方面，长春光机
: ...................

河南光刻机看来暂时不需要了

摩尔定律也差不多歇菜了，7nm大部分情况也足够了

后面慢慢磨刀，天朝自己搞不好也有5nm EUV光刻机了