中芯国际年底量产7nm芯片

keyrock
楼主 (未名空间)

日前中芯国际联席CEO梁孟松博士首次公开了中芯国际N+1、N+2代工艺的情况,透露N+1工艺相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%,SoC面积缩小55%
,之后的N+2工艺性能和成本都更高一些。

业界普遍认为,中芯国际N+1工艺相当于台积电第一代7nm工艺,N+2则相当于台积电7nm+,重点在提升性能,年底即可量产。

今天,中芯国际相关人士详细解释了N+1工艺,也澄清了一些误会。

首先需要强调的是,N+1是中芯国际的内部代号,并不等于7nm。

据介绍,中芯国际N+1工艺在去年第四季度完成流片,目前正处于客户产品验证阶段,
预计第四季度有限量产。

与市场上的7nm相比,中芯国际N+1在功耗、稳定性方面非常相似,唯一的区别就是性能,N+1的性能比14nm提高了约20%,但市场基准提升幅度是35%,所以有差距,但这也
是唯一的差距。

如果是从功耗、稳定性方面而言,可以将中芯国际N+1称为7nm,而在性能方面确实要比7nm差。

中芯国际对N+1的目标是低成本应用,可以将成本相对市场上的7nm减少大约10%,因此是一个非常特殊的工艺节点。

从中芯国际的表态看,N+1更类似于台积电、三星的10nm,或者有点像三星的8nm,因为20%的性能提升幅度远低于台积电预计的30%、实际的35%。

至于N+2工艺,与市场7nm更为接近,尤其是稳定性,但是性能仍然略逊一筹。

另外随着台积电、三星陆续导入EUV极紫外光刻,中芯国际也在加速推进,但是梁孟松
曾明确表示,

中芯国际无需EUV就能达成7nm,当然后续的5nm、3nm是必须要有EUV的。

其实,台积电第一代7nm也没有用EUV而是继续传统DUV,7nm+才有限导入EUV,几十层光罩中只有几层使用。
keyrock

现在手机芯片性能过剩,其实只要功耗,成本低,就很有竞争力了
MaLaRabbit

厉害了

【 在 keyrock (不高兴) 的大作中提到: 】
: 日前中芯国际联席CEO梁孟松博士首次公开了中芯国际N+1、N+2代工艺的情况,透露N+1
: 工艺相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%,SoC面积缩小55%
: ,之后的N+2工艺性能和成本都更高一些。
:
: 业界普遍认为,中芯国际N+1工艺相当于台积电第一代7nm工艺,N+2则相当于台积电
7nm
: +,重点在提升性能,年底即可量产。
:
: 今天,中芯国际相关人士详细解释了N+1工艺,也澄清了一些误会。
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: 首先需要强调的是,N+1是中芯国际的内部代号,并不等于7nm。
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: 据介绍,中芯国际N+1工艺在去年第四季度完成流片,目前正处于客户产品验证阶段,
: 预计第四季度有限量产。
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: 与市场上的7nm相比,中芯国际N+1在功耗、稳定性方面非常相似,唯一的区别就是性能
: ,N+1的性能比14nm提高了约20%,但市场基准提升幅度是35%,所以有差距,但这也
: 是唯一的差距。
:
: 如果是从功耗、稳定性方面而言,可以将中芯国际N+1称为7nm,而在性能方面确实要比
: 7nm差。
:
: 中芯国际对N+1的目标是低成本应用,可以将成本相对市场上的7nm减少大约10%,因此
: 是一个非常特殊的工艺节点。
:
: 从中芯国际的表态看,N+1更类似于台积电、三星的10nm,或者有点像三星的8nm,因为
: 20%的性能提升幅度远低于台积电预计的30%、实际的35%。
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: 至于N+2工艺,与市场7nm更为接近,尤其是稳定性,但是性能仍然略逊一筹。
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: 另外随着台积电、三星陆续导入EUV极紫外光刻,中芯国际也在加速推进,但是梁孟松
: 曾明确表示,
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: 中芯国际无需EUV就能达成7nm,当然后续的5nm、3nm是必须要有EUV的。
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: 其实,台积电第一代7nm也没有用EUV而是继续传统DUV,7nm+才有限导入EUV,几十层光
: 罩中只有几层使用。
w
wozhuzi

梁孟松

唉,一言难尽

m
mja

做为圈内人,我就告诉你一个事实,中芯就是个粪坑

【 在 keyrock (不高兴) 的大作中提到: 】
: 日前中芯国际联席CEO梁孟松博士首次公开了中芯国际N+1、N+2代工艺的情况,透露N+1
: 工艺相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%,SoC面积缩小55%
: ,之后的N+2工艺性能和成本都更高一些。
: 业界普遍认为,中芯国际N+1工艺相当于台积电第一代7nm工艺,N+2则相当于台积电
7nm
: +,重点在提升性能,年底即可量产。
: 今天,中芯国际相关人士详细解释了N+1工艺,也澄清了一些误会。
: 首先需要强调的是,N+1是中芯国际的内部代号,并不等于7nm。
: 据介绍,中芯国际N+1工艺在去年第四季度完成流片,目前正处于客户产品验证阶段,
: 预计第四季度有限量产。
: 与市场上的7nm相比,中芯国际N+1在功耗、稳定性方面非常相似,唯一的区别就是性能
: ...................

T
TheMatrix2

Tosylate 很快会来解读。

【 在 keyrock (不高兴) 的大作中提到: 】
: 日前中芯国际联席CEO梁孟松博士首次公开了中芯国际N+1、N+2代工艺的情况,透露N+1
: 工艺相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%,SoC面积缩小55%
: ,之后的N+2工艺性能和成本都更高一些。
: 业界普遍认为,中芯国际N+1工艺相当于台积电第一代7nm工艺,N+2则相当于台积电
7nm
: +,重点在提升性能,年底即可量产。
: 今天,中芯国际相关人士详细解释了N+1工艺,也澄清了一些误会。
: 首先需要强调的是,N+1是中芯国际的内部代号,并不等于7nm。
: 据介绍,中芯国际N+1工艺在去年第四季度完成流片,目前正处于客户产品验证阶段,
: 预计第四季度有限量产。
: 与市场上的7nm相比,中芯国际N+1在功耗、稳定性方面非常相似,唯一的区别就是性能
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s
scalife

先把14纳米良品率搞到能量产再来吹7纳米的牛吧,惹恼了美断供设备的话,连28纳米
也做不成了

s
scalife

先把14纳米良品率搞到能量产再来吹7纳米的牛吧,惹恼了美断供设备的话,连现在唯
一能量产的28纳米也做不成了

phlin


真是辛苦

【 在 keyrock (不高兴) 的大作中提到: 】
: 日前中芯国际联席CEO梁孟松博士首次公开了中芯国际N+1、N+2代工艺的情况,透露N+1
: 工艺相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、逻辑面积缩小63%,SoC面积缩小55%
: ,之后的N+2工艺性能和成本都更高一些。
: 业界普遍认为,中芯国际N+1工艺相当于台积电第一代7nm工艺,N+2则相当于台积电
7nm
: +,重点在提升性能,年底即可量产。
: 今天,中芯国际相关人士详细解释了N+1工艺,也澄清了一些误会。
: 首先需要强调的是,N+1是中芯国际的内部代号,并不等于7nm。
: 据介绍,中芯国际N+1工艺在去年第四季度完成流片,目前正处于客户产品验证阶段,
: 预计第四季度有限量产。
: 与市场上的7nm相比,中芯国际N+1在功耗、稳定性方面非常相似,唯一的区别就是性能
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t
tmbb2012

光刻机的时间差距也就在3年左右。

ASML得意不了多久。