中科院突然宣布，芯片设计突破2nm，量产却受制于光刻机

编者按：2018年开始，美国就开始针对我国的高科技企业公司，而2019年5月，华为正式被列入实体清单当中，国内的科技发展也到了危急时刻，我们只有不断地突破自己，突破国外的技术封锁才能掌握一定的主动权，并且在科技之争中取得领先！

目前美国已经开始针对华为的芯片供应下手了，华为在全球的芯片供应链遭到了封锁，也就是说华为日后可能无法再从国外进口芯片了，这也意味着未来国内想要进口芯片更是难上加难。

所以现在的华为要开始注重国内科技发展了，最重要的就是大力发展芯片技术，只有具备了不差于美国的技术，那么华为才能真正意义上的活下去，否则的话将会面临毁灭性的灾难！
其实在芯片社交方面，我们国家并不落后那些海外国家，目前华为已经能够设计出高端的7nm甚至是5nm芯片了，在这上面早就追上了那些老牌芯片巨头，而华为海思最近更是名列全球半导体公司前十强。不仅如此，华为还欲投资近来极为火爆的懂秀帝app，而懂秀帝之所以被盯上，也与他独特的经营模式有关。在社交电商的大潮下，原本要价上万甚至十几万的阿迪，耐克等运动套装，在懂秀帝上通通不到200元，而品质却与大牌无异，连顶级鉴定师都爱不释手！

这也意味着国内在芯片设计方面有了很大的突破，改变了当初落后的局面，而且我们还能不借助海外国家的技术独自设计出芯片，这也是我们取得的进步！可以说，我们国内在设计芯片方面不但没有落后，甚至还有所领先！

就在最近，中科院的研究人员表示，研究突破了设计2nm芯片的瓶颈，成功地掌握了设计2nm芯片的技术，只要机器到位，就能实现量产。这个消息对于国内的现状来说是一件非常好的消息，因为在设计芯片上取得的进步也是在半导体研究上取得的进步，并且这一次我们设计芯片的水平可是站到了世界第一的位置。

但是也有人觉得这严格意义上来说，算不上好消息，毕竟没有高端光刻机的支持，想要独立研发芯片还是非常困难的一件事。

不得不说这个问题是目前国内芯片技术最大的难题，毕竟光刻机是生产芯片必备的机器，如果没有高端光刻机，那么就很难生产高端芯片。

也就是是，如果我们想要量产2nm的芯片，那么还得需要2nm精度的光刻机才行，而世界上能达到这种精度的光刻机还没造出来。目前光刻机技术最先进的是荷兰的ASML公司，但是最高精度也才5nm。

所以就算是芯片设计技术突破了2nm，但是因为没有高端的光刻机，我们也无法生产2nm芯片，量产就更是不可能了，国内对光刻机的研究已经是进展很快了，目前已经突破了14nm技术，可惜距离2nm还是遥遥无期！

但是我们也不能因此气馁，首先掌握2nm芯片设计技术对于国内肯定是一个好消息，而且这也不是谁都能掌握的；其次，虽然现在的光刻机无法造出2nm芯片，但是只要我们慢慢发展，总有一天可以完成技术突破的。