只知光刻机不知道“光刻胶” 南大光电喜迎突破日美傻眼

编者按：由于光刻技术发展缓慢，国内芯片技术一直未能取得巨大成就。光刻机是芯片生产过程之中必不可少的机器，也就是说，没有高端光刻机，就无法生产出顶级芯片。


5月15日，美国商务部发表声明，将控制全球芯片晶圆的来源。任何向中国提供半导体技术或晶圆的合作都需要得到美国商务部的批准。可以说，它真正击中了华为和一些国内技术公司的弱点。

作为半导体瓶颈技术之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性。这个市场也被日本和美国公司垄断。前五大制造商占全球份额的85%。没有光刻胶，即使你有一台高端光刻胶机，那也是浪费钱。光刻胶技术也是一项非常重要的技术。


国产光刻胶之前只能在低端工艺生产线之上使用，可以达到g线（436nm）和i线（365nm）的水平。目前主要使用的ARF光刻胶是进口的。EUV光刻胶没有任何公司生产，基本上由日本公司控制。

近日，南大光电在互动平台之上表示，公司的ARF光刻胶正在按计划接受客户测试，这意味着我国的ARF光刻胶技术从研发到生产都取得了重要突破。


此外，南大光电在国产ARF光刻胶上的突破，也打破了日本和美国的市场垄断，在光刻胶市场之上也可以占有一席之地。这一光刻胶领域的突破，向高端光刻胶领域迈出了“一大步”，这也是日美两国始料未及的。这无疑证明，面对国外技术的封锁，中国仍然可以做出发展。