问题先生: "EUV光刻機2025年面世！華為采用LDP光源取代ASML的LPP光源，在東莞松山湖科學城生產。"

Q 問題先生在半導體行業20多年，有著研發生產設備的實際經驗，所工作的設備在1989和1991兩度拿到總督工業獎。問題先生走遍亞洲各大半導體工廠，對生產程序有深入的認識，從晶圓加工到芯片封裝。而技術方面，基本上自動系統的所有科技都有一定掌握，也做過ASIC設計、OS系統、不同的多工處理，機器語言(assembly language)尤為專長。
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EvenOdd 发表于 2025-03-12 16:37
Q 問題先生在半導體行業20多年，有著研發生產設備的實際經驗，所工作的設備在1989和1991兩度拿到總督工業獎。問題先生走遍亞洲各大半導體工廠，對生產程序有深入的認識，從晶圓加工到芯片封裝。而技術方面，基本上自動系統的所有科技都有一定掌握，也做過ASIC設計、OS系統、不同的多工處理，機器語言(assembly language)尤為專長。
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Q @mrquestion2010 12 hours ago (edited) LDP光源全面优於ASML的LPP，如果華為的EUV反光鏡技術能用上，其亮度可達ASML的大N.A.值EUV光刻机的兩倍，生產效率可追上DUV光刻，而且線條分析度可達7nm以下，造價和耗電都低於ASML， 正是彎道超車。 UQ

ASML听到瑟瑟发抖，川普暴跳如雷狂骂拜登雷蒙多

难怪asml的股价最近一年都一直萎靡不振，应该是国际投资家已经敏感看到这点了。马上这就成地板价了

回复 4楼 的帖子
，感觉和我的推测差不多，而且我也是说是LDP。深圳还有个公司在弄LPP，就是国外市场赶尽杀绝的
华为今年还有款手机，说体制内不想买也必须买的，应该就是使用自己量产EUV光刻机做的第一台手机。 以后体制内所有的电脑，手机，平台都必须用国产芯片

不错，若属实则乐观其成，中国人的稳扎稳打是自古以来的，与此相对的则是印度阿三摇头晃脑、满嘴谎言能将死的说成活的！

kingbo 发表于 2025-03-12 18:39
难怪asml的股价最近一年都一直萎靡不振，应该是国际投资家已经敏感看到这点了。马上这就成地板价了

就算那样 ASML也不会是地板价 最起码10年内不会 如果国内突破了 美国和这条产业链上的小伙伴会加大投资 更加激烈的竞争 甚至会大撒币 其实对股票投资者而言是件好事 短期内也许能 pump up and dump

LDP-EUV，并不是一个新的方案，而是当年和LPP方案一起竞标阿斯麦EUV光源失败的方案。LPP需要复杂的锡微滴发生器，实现液滴与激光点在空间和时间上的同步。LDP EUV 是将二氧化碳脉冲激光聚焦在电极上的液态锡靶表面，来激发EUV，控制相对简单。 2001年，日本USHIO在德国的子公司Extreme开始推出LDP产品，和美国Cymer竞标阿斯麦EUV光刻机的光源供应商。两者都可以达到10瓦的功率。阿斯麦要求250瓦功率。 十年后，2012年，Ushio的LDP可以达到70瓦。但是只能短暂达到。2013年，Cymer的LPP光源达到90瓦。持续时间超过数天。2017年，Cymer的LPP光源达到250瓦，而Ushio的LDP数年间几乎没有进展，持续性和功率远远不符合要求。至此，LDP在EUV 光刻光源的竞争中，彻底失败。 用已经证明不适用于光刻机的方案有何意义呢？

Xishankanqiao 发表于 2025-03-12 20:21
LDP-EUV，并不是一个新的方案，而是当年和LPP方案一起竞标阿斯麦EUV光源失败的方案。LPP需要复杂的锡微滴发生器，实现液滴与激光点在空间和时间上的同步。LDP EUV 是将二氧化碳脉冲激光聚焦在电极上的液态锡靶表面，来激发EUV，控制相对简单。 2001年，日本USHIO在德国的子公司Extreme开始推出LDP产品，和美国Cymer竞标阿斯麦EUV光刻机的光源供应商。两者都可以达到10瓦的功率。阿斯麦要求250瓦功率。 十年后，2012年，Ushio的LDP可以达到70瓦。但是只能短暂达到。2013年，Cymer的LPP光源达到90瓦。持续时间超过数天。2017年，Cymer的LPP光源达到250瓦，而Ushio的LDP数年间几乎没有进展，持续性和功率远远不符合要求。至此，LDP在EUV 光刻光源的竞争中，彻底失败。 用已经证明不适用于光刻机的方案有何意义呢？

失败乃成功之母，谁知道是否有新的发展呢？

Xishankanqiao 发表于 2025-03-12 20:21
LDP-EUV，并不是一个新的方案，而是当年和LPP方案一起竞标阿斯麦EUV光源失败的方案。LPP需要复杂的锡微滴发生器，实现液滴与激光点在空间和时间上的同步。LDP EUV 是将二氧化碳脉冲激光聚焦在电极上的液态锡靶表面，来激发EUV，控制相对简单。 2001年，日本USHIO在德国的子公司Extreme开始推出LDP产品，和美国Cymer竞标阿斯麦EUV光刻机的光源供应商。两者都可以达到10瓦的功率。阿斯麦要求250瓦功率。 十年后，2012年，Ushio的LDP可以达到70瓦。但是只能短暂达到。2013年，Cymer的LPP光源达到90瓦。持续时间超过数天。2017年，Cymer的LPP光源达到250瓦，而Ushio的LDP数年间几乎没有进展，持续性和功率远远不符合要求。至此，LDP在EUV 光刻光源的竞争中，彻底失败。 用已经证明不适用于光刻机的方案有何意义呢？

火车刚出来的时候跑的还没有马车快。如果当时的人想：用已经证明不适用的交通方法有何意义呢？所以应该放弃火车，继续用马车？

做出成品上生产线再说。 日本已经放弃EUV光刻这条路。

LDP-EUV，并不是一个新的方案，而是当年和LPP方案一起竞标阿斯麦EUV光源失败的方案。LPP需要复杂的锡微滴发生器，实现液滴与激光点在空间和时间上的同步。LDP EUV 是将二氧化碳脉冲激光聚焦在电极上的液态锡靶表面，来激发EUV，控制相对简单。 2001年，日本USHIO在德国的子公司Extreme开始推出LDP产品，和美国Cymer竞标阿斯麦EUV光刻机的光源供应商。两者都可以达到10瓦的功率。阿斯麦要求250瓦功率。 十年后，2012年，Ushio的LDP可以达到70瓦。但是只能短暂达到。2013年，Cymer的LPP光源达到90瓦。持续时间超过数天。2017年，Cymer的LPP光源达到250瓦，而Ushio的LDP数年间几乎没有进展，持续性和功率远远不符合要求。至此，LDP在EUV 光刻光源的竞争中，彻底失败。 用已经证明不适用于光刻机的方案有何意义呢？
Xishankanqiao 发表于 2025-03-12 20:21

<Cymer的LPP光源达到250瓦>
所以，目前对实验中的EUV 机器进行测试后发现，这是一个華為他们甚至不知道/测试过的这个关键部件的问题(他们主要想解决的)。! ?
?

EvenOdd 发表于 2025-03-13 12:37
<Cymer的LPP光源达到250瓦>
所以，目前对实验中的EUV 机器进行测试后发现，这是一个華為他们甚至不知道/测试过的这个关键部件的问题(他们主要想解决的)。! ?
?

Q DigiTimes
China's EUV breakthrough: Huawei, SMIC reportedly advancing LDP lithography, eye 3Q25 trial, 2026 rollout 2 days ago
Wccftech
China’s In-House EUV Machines Reportedly Entering Trial Production In Q3 2025, Utilizing An Approach That Offers A Simpler, Efficient Design; SMIC & Huawei To Benefit Greatly 3 days ago
UQ