? "华为和上海微电子联合参与研发的国产EUV光刻机即将上市，... 就要完成验收，明年交付商用。"

Q
更大的利好，是华为和上海微电子联合参与研发的国产EUV光刻机即将上市，今年马上就要验收了。注意，是EUV光刻机，不是DUV光刻机噢！
这里特别说明一下：
（1）国产28nm制程工艺的DUV光刻机是由上海微电子单独在研发，多重曝光可以制造7nm芯片，DUV光刻机已经通过验收，即将交付使用。
（2）而EUV光刻机，是由国家牵头，华为和上海微电子联合组建公司，联合研发，EUV光刻机可以制造1-7nm制程工艺的芯片。 
（3）国产EUV光刻机已经突破，今年马上就要完成验收，明年交付商用。
https://club.6parkbbs.com/military/index.php?app=forum&act=threadview&tid=17871440 UQ
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Q 深紫外 (DUV) 光刻工艺采用 > 7 nm 的工艺将电路雕刻到半导体晶圆上。
较新的极紫外 (EUV) 光刻技术可实现 2 nm 及以下的更小工艺。 这一进步允许将更多电路压缩到芯片上，对于维持摩尔定律至关重要。
https://www.gore.com/semiconductor-microelectronics-lithography
UQ

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too good to be true?

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yaob2002 发表于 2023-09-02 13:34