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中芯国际突破新技术,没有光刻机也能批量生产7nm芯片
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最新回复:2020年6月14日 22点4分 PT
共 (1) 楼
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o
onews
4 年多
楼主 (未名空间)
编者按:目前国内企业已经能够设计出性能优秀的芯片,但是在芯片代工方面,依然是一个短板。相比台积电、三星来说,其7nm工艺已经逐渐成熟,目前正冲向下一代芯片制程。而国内芯片代工方面,只有中芯国际发展乐观。
我国的芯片发展上有着2家非常有实力的公司,首先就是作为国营企业的台积电,他们也是和华为的合作是比较多的一家,但是14纳米的芯片订单却出现的一些纰漏,直接接手这一批芯片订单的就是中芯集团。
不过现在消息显示,国产7nm有信了,中芯国际不用EUV光刻机也能搞定。目前中芯国际已开始发展更新一代的N+1、N+2工艺。根据中芯国际联席CEO梁孟松的说法,N+1工艺和14nm相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,逻辑面积缩小了63%,SoC面积减少了55%。N+1基本上可以确定是7nm级别的工艺了。
这一规格也已经进行了批量生产,出来这些,他们还有芯片制造领域的新技术突破,n+1.n+2的芯片加密研制,这样的技术研究就是将14纳米的芯片进行加密制造。
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编者按:目前国内企业已经能够设计出性能优秀的芯片,但是在芯片代工方面,依然是一个短板。相比台积电、三星来说,其7nm工艺已经逐渐成熟,目前正冲向下一代芯片制程。而国内芯片代工方面,只有中芯国际发展乐观。
我国的芯片发展上有着2家非常有实力的公司,首先就是作为国营企业的台积电,他们也是和华为的合作是比较多的一家,但是14纳米的芯片订单却出现的一些纰漏,直接接手这一批芯片订单的就是中芯集团。
不过现在消息显示,国产7nm有信了,中芯国际不用EUV光刻机也能搞定。目前中芯国际已开始发展更新一代的N+1、N+2工艺。根据中芯国际联席CEO梁孟松的说法,N+1工艺和14nm相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,逻辑面积缩小了63%,SoC面积减少了55%。N+1基本上可以确定是7nm级别的工艺了。
这一规格也已经进行了批量生产,出来这些,他们还有芯片制造领域的新技术突破,n+1.n+2的芯片加密研制,这样的技术研究就是将14纳米的芯片进行加密制造。