继中国哈尔滨工业大学宣布在EUV光源上面实现了技术突破后，美国与荷兰做出了反应。
根据观察者网报道，1月17日，荷兰政府对路透社表示，该政府决定把光刻机巨头ASML的对华销售情况，排除在敏感商品出口信息的披露范围之外。这一罕见举动之所以引发关注，是因为荷兰之前一直会定期披露具有潜在军事用途的“两用”产品出口情况，供专家和议会等机构了解。
为什么荷兰要隐藏光刻机对华销售情况，这背后的目的是什么？
这要从ASML的财报说起。
据报道，在披露2024年三季度业绩时，ASML首席财务官戴厚杰（Roger Dassen）表示，中国市场的占比正趋向历史正常水平，预计2025年中国市场的整体营收占比将在20%左右。
他同时也提到，中国市场的业务有不少是围绕浸润式光刻系统，而这类光刻系统的毛利率显著高于该公司整体毛利率。因此若中国市场的份额发生变化，ASML毛利率也将受到影响。
ASML现在面临一个情况，就是尽管AI展现出强劲的上升势头，但芯片市场的复苏进度放缓，ASML主要客户台积电和三星的决策都更加谨慎。
但是中国在成熟芯片市场的扩产效应非常明显，对ASML的业绩形成支撑，连续占据该公司的半数营收。
这说明什么呢，说明来自台积电与三星这些主要客户的单子少了，但是中国市场却非常强劲。从财报以及ASML未来的预期来看，中国市场由于强劲的成熟市场扩产效应，目前占了ASML的半数营收，但是2025年预计中国市场仅占ASML营收的20%左右。
从占50%的营收到占20%的营收，即ASML预计来自中国的营收在2025年将会大跌。
为什么会大跌？一方面是成熟芯片市场的产能逐步过剩，这是大环境因素，一方面在美国的压力下，中国本来就无法购买ASML最先进的EUV（极紫外光）光刻机，荷兰政府甚至进一步限制了ASML向中国销售第二先进的浸没式深紫外（DUV）光刻系统，要求ASML必须为每笔出口向海牙申请出口许可。
加上在过去的两年中，中国已经购买了超过115台ASML的浸润式DUV光刻机，需求放缓了。而更重要的是，今年9月，国家工信部突然官宣的“国产光刻机”，这一成果表明了中国国产光刻机在28nm已经做到了国产替代了，且可能已大面积商用推广。
因此，中国市场充满变数且是ASML无法舍弃的市场，一旦丢掉中国市场，ASML的天就塌了。中国市场占半数营收，这不是你年入100万，变成年入50万的问题。而是这个占你另一半的市场客户，还会抢你剩下的50%的市场营收。因为中国如果不再是客户，那么将是最强大的竞争对手。
如果ASML仅仅依赖中国之外的市场，那ASML的市场份额与营收只会越来越少，因为中国自主光刻机的量产与应用只是时间问题，现在有台媒报道但未经证实的消息即中国28纳米光刻机已经在出口，虽然这条消息未经证实，但很显然，这可能是一个避免不了的趋势。
而更关键的是，ASML作为全球唯一的EUV光刻机供应商，其公司掌握着EUV设备最核心的技术领域，这也是它的核心盈利来源，虽然中国现在还做不出EUV光刻机，但这种苗头已经非常明显。
近期国产光刻机领域的一个重要突破是哈工大官方官宣搞定13.5纳米极紫外光源，美国Cymer公司使用的是传统的LPP技术，而哈工大使用是的则是DPP技术，与荷兰采用透镜技术获得极紫光不同，哈工大是通过粒子加速辐射取得了极紫光，省去了激光生成的环节，降低了能源消耗，实现了更高效率的能量转换。这一创新性的方法展示了中国在光刻机领域的弯道超车能力与进化速度，其效率更高，难度更大，但精准度更高！
光源技术一直是美国Cymer公司掌握着成熟技术，是EUV光刻机的核心技术壁垒之一，光源的重要性占了光刻机的70%。
哈工大搞定了光源，而长春光机所早在2015年就研发出了EUV光刻机的高精度弧形反射镜系统，后来也逐步攻克了超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术等。
如果说今年9月底工信部官宣的DUV光刻机，并没有触及ASML的核心利益。那么哈工大公布的EUV光刻机光源技术才是荷兰最为担忧的，这可能已经触及到了它的核心利益与壁垒了。一台顶级的EUV光刻机需要的不仅是顶级的光源系统、还要有物镜系统、双工件台、控制系统四大件组成。
在光源技术之外，现在麒麟9020能做出来7纳米技术，其实说明或已解决了物镜系统和双工件和控制系统。也就是说，中国在EUV光刻机上的核心技术已经基本攻克了。一旦中国把EUV光刻机做出来，那么市场会发生翻天覆地的变化，ASML在市场的生存环境就会发生巨大的变化。
早前清华大学法学博士蔡正元的预测，希望2028年之前国产EUV光刻机能够诞生。但实际时间其实可能比这个时间点要更早。甚至有业内传言国产EUV光刻机正在调试，预计2025年下半年投入使用，当然，何时投入使用，目前还是未知数，但这个时间点可能不会太久。
毕竟，美国现在也已经紧急启动第二方案，研发新技术淘汰EUV——现在美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，对比现在ASML公司制造的EUV设备，BAT激光器的功率相当于现在EUV设备的10倍。更大的光源功率，代表着更高效率的产品制造，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。
美国为何要紧急启动第二方案，提前布局下一代技术？因为美国也看到了中国在光刻机技术层面的突破，哈工大DPP－EUV技术绕过了ASML主营的LPP－EUV技术壁垒，为国产的EUV光刻机提供了技术支持，距离中国EUV光刻机的面世也就几年时间。
美国需要提前走到更前面，才能避免被未来的国产EUV光刻技术弯道超车。
因此，荷兰现在的焦虑可想而知，再不卖，可能真的卖不动了。因此，如今隐藏光刻机对华销售情况，这里的意图可能就很清楚了，就是以后到底有卖了多少给中国，哪些型号，是否有涉及到禁止出口的型号，这些都是保密信息了。
这里涉及到的另一重意思是，荷兰可能不愿意再那么严格的遵循美国的出口管制了，该卖的还得卖，明面上我遵循出口管制禁止销售，但实际上销售了多少，只有彼此心里有数了。
如果解禁的产品中包括NXT 2050i和NXT 2100i这两款型号，那么可以反向证明中国在相关技术领域也获得了重大突破。
一般来说，以2000i和2050i为代表的高端DUV光刻机，可以大幅提升5纳米和7纳米制程半导体的良率，荷兰的措施或意味着将有助于提升中国产能，并大幅度提高其在5nm~7nm产品的良品率，满足14纳米以下先进制程芯片的技术发展。
其实荷兰现在越来越清楚：把中国排除在正常出口国清单之外，美国却在发展自己的下一代光刻机技术，最终受损的却是自己，这意味着荷兰看到了中国在光刻机上突破的曙光以及越来越快的进度，生产5纳米或者4纳米产品或不存在太大的技术难题的。
中国在中低端DUV光刻机所占的市场，就占据了ASML一半的营收，随着中国大规模扩产成熟制程，并加速发展先进制程半导体，阿斯麦出口业务中，不可能抛弃这一巨大市场，这对ASML意味着什么，可能没有人比荷兰更清楚，美媒哀叹这下如同开闸放水一般，根本堵不住了。
作者：王新喜 TMT资深评论人
继中国哈尔滨工业大学宣布在EUV光源上面实现了技术突破后，美国与荷兰做出了反应。
根据观察者网报道，1月17日，荷兰政府对路透社表示，该政府决定把光刻机巨头ASML的对华销售情况，排除在敏感商品出口信息的披露范围之外。这一罕见举动之所以引发关注，是因为荷兰之前一直会定期披露具有潜在军事用途的“两用”产品出口情况，供专家和议会等机构了解。
为什么荷兰要隐藏光刻机对华销售情况，这背后的目的是什么？
这要从ASML的财报说起。
据报道，在披露2024年三季度业绩时，ASML首席财务官戴厚杰（Roger Dassen）表示，中国市场的占比正趋向历史正常水平，预计2025年中国市场的整体营收占比将在20%左右。
他同时也提到，中国市场的业务有不少是围绕浸润式光刻系统，而这类光刻系统的毛利率显著高于该公司整体毛利率。因此若中国市场的份额发生变化，ASML毛利率也将受到影响。
ASML现在面临一个情况，就是尽管AI展现出强劲的上升势头，但芯片市场的复苏进度放缓，ASML主要客户台积电和三星的决策都更加谨慎。
但是中国在成熟芯片市场的扩产效应非常明显，对ASML的业绩形成支撑，连续占据该公司的半数营收。
这说明什么呢，说明来自台积电与三星这些主要客户的单子少了，但是中国市场却非常强劲。从财报以及ASML未来的预期来看，中国市场由于强劲的成熟市场扩产效应，目前占了ASML的半数营收，但是2025年预计中国市场仅占ASML营收的20%左右。
从占50%的营收到占20%的营收，即ASML预计来自中国的营收在2025年将会大跌。
为什么会大跌？一方面是成熟芯片市场的产能逐步过剩，这是大环境因素，一方面在美国的压力下，中国本来就无法购买ASML最先进的EUV（极紫外光）光刻机，荷兰政府甚至进一步限制了ASML向中国销售第二先进的浸没式深紫外（DUV）光刻系统，要求ASML必须为每笔出口向海牙申请出口许可。
加上在过去的两年中，中国已经购买了超过115台ASML的浸润式DUV光刻机，需求放缓了。而更重要的是，今年9月，国家工信部突然官宣的“国产光刻机”，这一成果表明了中国国产光刻机在28nm已经做到了国产替代了，且可能已大面积商用推广。
因此，中国市场充满变数且是ASML无法舍弃的市场，一旦丢掉中国市场，ASML的天就塌了。中国市场占半数营收，这不是你年入100万，变成年入50万的问题。而是这个占你另一半的市场客户，还会抢你剩下的50%的市场营收。因为中国如果不再是客户，那么将是最强大的竞争对手。
如果ASML仅仅依赖中国之外的市场，那ASML的市场份额与营收只会越来越少，因为中国自主光刻机的量产与应用只是时间问题，现在有台媒报道但未经证实的消息即中国28纳米光刻机已经在出口，虽然这条消息未经证实，但很显然，这可能是一个避免不了的趋势。
而更关键的是，ASML作为全球唯一的EUV光刻机供应商，其公司掌握着EUV设备最核心的技术领域，这也是它的核心盈利来源，虽然中国现在还做不出EUV光刻机，但这种苗头已经非常明显。
近期国产光刻机领域的一个重要突破是哈工大官方官宣搞定13.5纳米极紫外光源，美国Cymer公司使用的是传统的LPP技术，而哈工大使用是的则是DPP技术，与荷兰采用透镜技术获得极紫光不同，哈工大是通过粒子加速辐射取得了极紫光，省去了激光生成的环节，降低了能源消耗，实现了更高效率的能量转换。这一创新性的方法展示了中国在光刻机领域的弯道超车能力与进化速度，其效率更高，难度更大，但精准度更高！
光源技术一直是美国Cymer公司掌握着成熟技术，是EUV光刻机的核心技术壁垒之一，光源的重要性占了光刻机的70%。
哈工大搞定了光源，而长春光机所早在2015年就研发出了EUV光刻机的高精度弧形反射镜系统，后来也逐步攻克了超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术等。
如果说今年9月底工信部官宣的DUV光刻机，并没有触及ASML的核心利益。那么哈工大公布的EUV光刻机光源技术才是荷兰最为担忧的，这可能已经触及到了它的核心利益与壁垒了。一台顶级的EUV光刻机需要的不仅是顶级的光源系统、还要有物镜系统、双工件台、控制系统四大件组成。
在光源技术之外，现在麒麟9020能做出来7纳米技术，其实说明或已解决了物镜系统和双工件和控制系统。也就是说，中国在EUV光刻机上的核心技术已经基本攻克了。一旦中国把EUV光刻机做出来，那么市场会发生翻天覆地的变化，ASML在市场的生存环境就会发生巨大的变化。
早前清华大学法学博士蔡正元的预测，希望2028年之前国产EUV光刻机能够诞生。但实际时间其实可能比这个时间点要更早。甚至有业内传言国产EUV光刻机正在调试，预计2025年下半年投入使用，当然，何时投入使用，目前还是未知数，但这个时间点可能不会太久。
毕竟，美国现在也已经紧急启动第二方案，研发新技术淘汰EUV——现在美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，对比现在ASML公司制造的EUV设备，BAT激光器的功率相当于现在EUV设备的10倍。更大的光源功率，代表着更高效率的产品制造，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。
美国为何要紧急启动第二方案，提前布局下一代技术？因为美国也看到了中国在光刻机技术层面的突破，哈工大DPP－EUV技术绕过了ASML主营的LPP－EUV技术壁垒，为国产的EUV光刻机提供了技术支持，距离中国EUV光刻机的面世也就几年时间。
美国需要提前走到更前面，才能避免被未来的国产EUV光刻技术弯道超车。
因此，荷兰现在的焦虑可想而知，再不卖，可能真的卖不动了。因此，如今隐藏光刻机对华销售情况，这里的意图可能就很清楚了，就是以后到底有卖了多少给中国，哪些型号，是否有涉及到禁止出口的型号，这些都是保密信息了。
这里涉及到的另一重意思是，荷兰可能不愿意再那么严格的遵循美国的出口管制了，该卖的还得卖，明面上我遵循出口管制禁止销售，但实际上销售了多少，只有彼此心里有数了。
如果解禁的产品中包括NXT 2050i和NXT 2100i这两款型号，那么可以反向证明中国在相关技术领域也获得了重大突破。
一般来说，以2000i和2050i为代表的高端DUV光刻机，可以大幅提升5纳米和7纳米制程半导体的良率，荷兰的措施或意味着将有助于提升中国产能，并大幅度提高其在5nm~7nm产品的良品率，满足14纳米以下先进制程芯片的技术发展。
其实荷兰现在越来越清楚：把中国排除在正常出口国清单之外，美国却在发展自己的下一代光刻机技术，最终受损的却是自己，这意味着荷兰看到了中国在光刻机上突破的曙光以及越来越快的进度，生产5纳米或者4纳米产品或不存在太大的技术难题的。
中国在中低端DUV光刻机所占的市场，就占据了ASML一半的营收，随着中国大规模扩产成熟制程，并加速发展先进制程半导体，阿斯麦出口业务中，不可能抛弃这一巨大市场，这对ASML意味着什么，可能没有人比荷兰更清楚，美媒哀叹这下如同开闸放水一般，根本堵不住了。
作者：王新喜 TMT资深评论人